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2010年第二季度半導體生產(chǎn)線整體開工點評
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http://www.mamogu.com 發(fā)稿日期:2010-8-21
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2010-2015年中國觸器產(chǎn)業(yè)深度調研及未來發(fā)展現(xiàn)狀 【出版日期】 2010年8月 【報告頁碼】 350頁 【圖表數(shù)量】 150個2010-2015年中國豆膽燈產(chǎn)業(yè)深度調研及未來發(fā)展現(xiàn) 【出版日期】 2010年8月 【報告頁碼】 350頁 【圖表數(shù)量】 150個2010-2015年中國轉角儀產(chǎn)業(yè)深度調研及未來發(fā)展現(xiàn) 【出版日期】 2010年8月 【報告頁碼】 350頁 【圖表數(shù)量】 150個2010-2015年中國鋁器皿產(chǎn)業(yè)深度調研及未來發(fā)展現(xiàn) 【出版日期】 2010年8月 【報告頁碼】 350頁 【圖表數(shù)量】 150個
晶圓處理能力方面,半導體整體為同比(YoY)減少0.2%,環(huán)比(QoQ)增長0.6%,MOS IC整體為同比增長0.1%,環(huán)比增長0.6%,繼續(xù)持平。旨在從0.12~0.06μm生產(chǎn)線向0.06μm以下生產(chǎn)線過渡的細微化投資十分活躍,但是為擴大晶圓處理能力的增產(chǎn)投資卻稍顯遜色:其沖抵了老生產(chǎn)線廢棄導致的晶圓處理能力下降。增產(chǎn)投資的實施,從半導體廠商的企業(yè)形態(tài)看,主要是硅代工廠商,從晶圓直徑來看,主要面向300mm晶圓進行。而在硅代工廠商之外的垂直整合型半導體廠商(IDM)因進行重組,廢棄了200mm以下的量產(chǎn)線。
晶圓的實際投入量方面,除部分特例外,均持續(xù)了YoY增20~30%、QoQ增近10%的增長率。其中,從半導體廠商的企業(yè)形態(tài)來看,硅代工廠商的增長率比較顯著,而從工藝技術來看,60nm以下工藝的增長率較為顯著。硅代工廠商的投入量為YoY增67.8%,QoQ增10.6%,達到40萬2200 片/周(以200mm晶圓換算,下同)。60nm以下工藝晶圓的投入量為QoQ增13.0%,達到78萬500片/周。 - ■ 與【2010年第二季度半導體生產(chǎn)線整體開工點評】相關研究報告
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