荷蘭光刻機生產(chǎn)企業(yè)阿斯麥(ASML)周三向投資者保證，美國限制中國獲取尖端半導體技術(shù)的最新出口管制措施，對該公司的影響“相當有限”。ASML的言論讓市場感到出乎意料，一直以來，受美國政府對華貿(mào)易打壓影響，芯片設備行業(yè)蒙受損失，但ASML認為，公司未來銷售額會高于
ASML拒絕美要求禁止對華出售光刻機
據(jù)彭博社20日報道，荷蘭光刻機生產(chǎn)企業(yè)阿斯麥(ASML)周三向投資者保證，美國限制中國獲取尖端半導體技術(shù)的最新出口管制措施，對該公司的影響“相當有限”。ASML的言論讓市場感到出乎意料，一直以來，受美國政府對華貿(mào)易打壓影響，芯片設備行業(yè)蒙受損失，但ASML認為，公司未來銷售額會高于市場預期。
ASML當?shù)貢r間19日公布的財報顯示，今年三季度該公司凈銷售額為57.7億歐元，凈收入17億歐元，超過分析師預測的54.1億歐元銷售額和14.2億歐元利潤。該公司稱，由于對先進芯片制造機器的強勁需求，第四季度的銷售額可能會高于分析師的預期。
光刻機是干什么用的
光刻機又被稱為掩模對準曝光機，是制造芯片的核心裝備。其工作原理類似于照片沖印，需要將掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。截止目前，世界上最先進的光刻機無疑是荷蘭ASML公司所生產(chǎn)的了。
光刻機是芯片制造的核心設備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機;有用于封裝的光刻機;還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。
目前有用于生產(chǎn)的光刻機，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機，還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
在加工芯片的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。
經(jīng)過多年的努力追趕，中國光刻機產(chǎn)業(yè)鏈在一些領(lǐng)域已經(jīng)實現(xiàn)了突破，初步打破國外巨頭完全壟斷的局面，讓中國光刻機產(chǎn)業(yè)鏈擁有了追趕國際的基礎(chǔ)能力。
光刻機為什么中國做不出來
光刻機不是說中國做不出來，只是說做出5納米精度目前是做不了，因為很多方面技術(shù)方面受到了限制，像很多符合要求的光刻機零件是無法自主制造出來。
1、光刻機的鏡頭技術(shù)要求很高，我國當前的技術(shù)水平不足以研制出精度足夠的鏡頭，只能選擇從國外進口。
2、有一部分零件無法機器生產(chǎn)，因為它們對精度的要求相當高，必須由很多工程師耗費大量的時間去手工打磨。這使得我國的光刻機研制備受阻滯。
光刻機作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，制造和維護均需要高度的光學和電子工業(yè)基礎(chǔ)。而光刻技術(shù)則是制造集成電路的關(guān)鍵技術(shù)，是通過紫外光、準分子激光、電子束等廣義光源和與其敏感的光刻膠之間的相互作用在基板上形成微納結(jié)構(gòu)圖形的技術(shù)。
據(jù)中研普華研究報告《2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告》分析
目前，世界光刻機行業(yè)的集中度非常高，前三大企業(yè)占據(jù)了90%以上的市場。中國光刻機一直是制約中國半導體器件生產(chǎn)的最大障礙。中國的光刻機，短期內(nèi)是無法跟上國際的。
從政策上來說，半導體行業(yè)需要大量的資金，而光刻機又不是一蹴而就的，所以政府必須要確保政策和資金的持續(xù)性。除了政府的資助之外，社會資本對于半導體行業(yè)整體趨勢的了解也會更加深刻。通過政府的資金支持，引導社會資金進入半導體行業(yè)，將更多的技術(shù)投入到半導體行業(yè)中來，從而促進整個行業(yè)的發(fā)展。
從產(chǎn)業(yè)鏈來看，光刻機上游產(chǎn)業(yè)鏈主要包括測量臺與曝光臺(雙工件臺)、激光器、光速矯正器、能量控制器、光速形狀設置、遮光器、能量探測器、掩膜版、掩膜臺、物鏡、內(nèi)部封閉框架和減震器等11個模塊的組件。上游最為核心設備分別為光學鏡頭、光學光源和雙工件臺。光刻機行業(yè)的下游主要是圓晶代工企業(yè)，下游主要決定了光刻機市場的需求。
我國在光刻機的相關(guān)政策中，對于光刻機的未來發(fā)展十分看重，在進出口、人才培養(yǎng)等方面給予扶持，未來光刻機發(fā)展不可估量。
欲了解更多市場具體詳情可以點擊查看中研普華研究報告《2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告》。
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2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告
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