阿斯麥：四季度新預(yù)定額為92億歐元 其中56億歐元為EUV光刻機(jī) 光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析報(bào)告

• 李波 2024年1月24日 來源：中研普華集團(tuán)、央視財(cái)經(jīng)、中研網(wǎng) 1193 77
• 繁體

阿斯麥，四季度新預(yù)定額為92億歐元，其中56億歐元為EUV光刻機(jī)。

阿斯麥，四季度新預(yù)定額為92億歐元，其中56億歐元為EUV光刻機(jī)。

數(shù)據(jù)顯示，2022年全球光刻機(jī)市場(chǎng)超過200億美元，ASML、Canon、Nikon三大巨頭壟斷了大部分市場(chǎng)份額，光刻機(jī)營收分別達(dá)到了161億美元、20億美元、15億美元，市場(chǎng)份額分別為82%、10%、8%。

在超高端的EUV光刻機(jī)上，基本上ASML處于壟斷地位。從2022年收入來源看，中國大陸占ASML銷售額的14%。

安信證券研報(bào)認(rèn)為，光刻機(jī)是芯片制造核心設(shè)備，對(duì)制程升級(jí)發(fā)揮關(guān)鍵作用，國產(chǎn)光刻機(jī)在技術(shù)節(jié)點(diǎn)上與國際廠商相比仍有差距。光刻機(jī)是“工業(yè)王冠上的寶石”，是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備，國產(chǎn)替代勢(shì)在必行。

光刻機(jī)是一種利用光學(xué)原理將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上的設(shè)備，相當(dāng)于芯片制造的“打印機(jī)”，決定著芯片的工藝水平和性能，是芯片制造中的關(guān)鍵核心設(shè)備，也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心中的核心。

光刻機(jī)的工作原理，或者說現(xiàn)代芯片制作的基本原理本身并不難懂，這個(gè)過程大致包括：(1)畫出線路圖;(2)把線路圖刻到玻璃板上，制成掩膜(也叫光罩);

(3)把掩膜上的線路圖用強(qiáng)光投射到涂了光刻膠的硅片(晶圓)上，光刻膠被強(qiáng)光照射的部分變得可以溶解，這樣就在硅片上曝光出了線路圖;(4)對(duì)硅片上的線路圖多次使用刻蝕、擴(kuò)散、沉積等工藝做出復(fù)雜的晶體管和電路網(wǎng)絡(luò)。

光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，制造和維護(hù)均需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)。

而光刻技術(shù)則是制造集成電路的關(guān)鍵技術(shù)，是通過紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束等廣義光源和與其敏感的光刻膠之間的相互作用在基板上形成微納結(jié)構(gòu)圖形的技術(shù)。

光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析

從產(chǎn)業(yè)鏈來看，光刻機(jī)上游產(chǎn)業(yè)鏈主要包括測(cè)量臺(tái)與曝光臺(tái)(雙工件臺(tái))、激光器、光速矯正器、能量控制器、光速形狀設(shè)置、遮光器、能量探測(cè)器、掩膜版、掩膜臺(tái)、物鏡、內(nèi)部封閉框架和減震器等11個(gè)模塊的組件。

上游最為核心設(shè)備分別為光學(xué)鏡頭、光學(xué)光源和雙工件臺(tái)。光刻機(jī)行業(yè)的下游主要是圓晶代工企業(yè)，下游主要決定了光刻機(jī)市場(chǎng)的需求。

光刻機(jī)作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)要求最高的設(shè)備，市場(chǎng)高度集中背景，市場(chǎng)主流產(chǎn)品基本來自前三大企業(yè)。

就細(xì)分產(chǎn)品類型而言，EUV作為唯一能夠制備7nm及以下工藝的光刻機(jī)，采用EUV光源，使用的光波波長只有13.5nm， NA (數(shù)值孔徑)為0.33， 目前全球只有ASML能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)。 隨著高端芯片持續(xù)上升，EUV銷量穩(wěn)步擴(kuò)張，是光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模增長的主要?jiǎng)恿Α?/p>

據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院《2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報(bào)告》分析：

全球光刻機(jī)市場(chǎng)幾乎被荷蘭的阿斯麥(ASML)、日本的佳能和尼康壟斷，其中ASML更是獨(dú)占高端極紫外光刻機(jī)(EUV)的市場(chǎng)份額。隨著這些國家對(duì)中國半導(dǎo)體制造設(shè)備實(shí)施出口限制，中國獲取高端光刻機(jī)的難度將進(jìn)一步加大。

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)具有周期性波動(dòng)特征，產(chǎn)能過剩和需求不足會(huì)導(dǎo)致光刻機(jī)產(chǎn)量下降。而近些年中國光刻機(jī)國產(chǎn)化進(jìn)程加快，盡管中國的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)取得了一定的發(fā)展，但與國際領(lǐng)先水平相比，仍存在一些技術(shù)限制，尤其是高端光刻機(jī)技術(shù)受制于國外供應(yīng)商。

根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，2022年中國光刻機(jī)產(chǎn)量約為95臺(tái)，需求量約為652臺(tái)。光刻機(jī)的研發(fā)、制造和維護(hù)成本較高，特別是高性能光刻機(jī)。

然而，在市場(chǎng)競(jìng)爭加劇的情況下，制造商為了降低成本和提高競(jìng)爭力，不得不考慮降低價(jià)格。這導(dǎo)致了市場(chǎng)均價(jià)的下降。2022年中國光刻機(jī)均價(jià)約為2267.2萬元/臺(tái)。

2022年11月15日，國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公布了華為的一項(xiàng)新專利“反射鏡、光刻裝置及其控制方法”(CN115343915A)，這是在EUV光刻機(jī)核心技術(shù)上取得的突破性進(jìn)展。

另外，華中科技大學(xué)研制的OPC系統(tǒng)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)研制的激光干涉系統(tǒng)等，也各自有所突破。同時(shí)，我國也在加快推進(jìn)14納米、7納米甚至更低節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)研發(fā)工作。

我國可量產(chǎn)90納米以上的光刻機(jī)，與國際先進(jìn)水平雖有差距，但也能滿足國內(nèi)市場(chǎng)部分需要。這表明，我國在光刻機(jī)領(lǐng)域具有一定的技術(shù)積累和人才儲(chǔ)備，有望逐步縮小與國際先進(jìn)水平的差距。

在未來的幾年中，這個(gè)行業(yè)將會(huì)面臨哪些新的挑戰(zhàn)和機(jī)遇?

報(bào)告對(duì)我國光刻機(jī)行業(yè)的供需狀況、發(fā)展現(xiàn)狀、子行業(yè)發(fā)展變化等進(jìn)行了分析，重點(diǎn)分析了國內(nèi)外光刻機(jī)行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、如何面對(duì)行業(yè)的發(fā)展挑戰(zhàn)、行業(yè)的發(fā)展建議、行業(yè)競(jìng)爭力，以及行業(yè)的投資分析和趨勢(shì)預(yù)測(cè)等等。報(bào)告還綜合了光刻機(jī)行業(yè)的整體發(fā)展動(dòng)態(tài)，對(duì)行業(yè)在產(chǎn)品方面提供了參考建議和具體解決辦法。

想要了解更多光刻機(jī)行業(yè)詳情分析，可以點(diǎn)擊查看中研普華研究報(bào)告《2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報(bào)告》。

• 相關(guān)深度報(bào)告REPORTS

  

  2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報(bào)告

  光刻機(jī)行業(yè)研究報(bào)告中的光刻機(jī)行業(yè)數(shù)據(jù)分析以權(quán)威的國家統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)為基礎(chǔ)，采用宏觀和微觀相結(jié)合的分析方式，利用科學(xué)的統(tǒng)計(jì)分析方法，在描述行業(yè)概貌的同時(shí)，對(duì)光刻機(jī)行業(yè)進(jìn)行細(xì)化分析，重點(diǎn)企業(yè)...

  查看詳情

延伸閱讀

推薦閱讀

猜您喜歡