真空鍍膜是表面處理技術(shù)的一項(xiàng)分支,是指為了減少雜質(zhì)的干擾,在高度真空環(huán)境下,通過物理或化學(xué)手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉(zhuǎn)換成氣態(tài)或等離子態(tài),并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或有機(jī)材料等固體材質(zhì)(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。
真空鍍膜是表面處理技術(shù)的一項(xiàng)分支,是指為了減少雜質(zhì)的干擾,在高度真空環(huán)境下,通過物理或化學(xué)手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉(zhuǎn)換成氣態(tài)或等離子態(tài),并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或有機(jī)材料等固體材質(zhì)(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。利用真空鍍膜技術(shù)鍍制薄膜后,可使材料表面獲得新的復(fù)合性能并實(shí)現(xiàn)新型的工程應(yīng)用,賦予材料表面新的機(jī)械功能、裝飾功能和聲、電、光、磁及其轉(zhuǎn)換等特殊功能(例如防輻射、增減透光、導(dǎo)電或絕緣、導(dǎo)磁、抗氧化、耐磨損耐高溫耐腐蝕等),從而改善產(chǎn)品原有性能、提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命等。和傳統(tǒng)鍍膜方法(如電鍍、化學(xué)鍍膜)相比,真空鍍膜使用的鍍膜材料種類更豐富、膜層厚度更易控制、附著力更強(qiáng)、適用范圍更廣,在操作過程中更加節(jié)能、安全、環(huán)保。
真空鍍膜技術(shù)與傳統(tǒng)的電鍍、熱浸鍍技術(shù)相比較,主要有三大優(yōu)勢:一是不影響被鍍材料的質(zhì)量,在加熱鍍膜材料時(shí),不需要過高溫度,因此不會出現(xiàn)被鍍材料在幾何尺寸上發(fā)生變形或降低材質(zhì)性能等現(xiàn)象;二是可以較大范圍內(nèi)自由選擇鍍膜材料,更容易在組成和構(gòu)造上對膜材進(jìn)行控制;三是鍍膜過程與電鍍、熱浸鍍技術(shù)相比,對周圍環(huán)境影響更小。發(fā)行人產(chǎn)品主要為PVD真空鍍膜設(shè)備,涵蓋了真空蒸發(fā)鍍膜、真空磁控濺射鍍膜和真空離子鍍膜三種主流技術(shù),可實(shí)現(xiàn)上述一種或多種技術(shù)組合,且長期致力于柔性卷繞鍍膜設(shè)備和連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線的研發(fā)和銷售,用以滿足客戶定制化的鍍膜需求。三類真空鍍膜技術(shù)介紹及圖示如下:
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