三星與東進半導體開發(fā)EUV光刻膠 全球光刻膠產業(yè)的前景與未來發(fā)展

• 2021年12月20日 HuangJiang來源：新浪 1422 94
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現(xiàn)在三星與韓國半導體廠商東進合作開發(fā)成功EUV光刻膠，已經通過驗證。東進半導體19日宣布，近期通過了三星電子的EUV PR(光刻膠)可靠性測試。

三星與東進半導體開發(fā)EUV光刻膠

EUV光刻工藝除了需要EUV光刻機之外，也需要配套的EUV光刻膠，目前這一市場也主要被日本廠商壟斷，現(xiàn)在三星與韓國半導體廠商東進合作開發(fā)成功EUV光刻膠，已經通過驗證。東進半導體19日宣布，近期通過了三星電子的EUV PR(光刻膠)可靠性測試。

PR，也稱為光刻膠，是半導體曝光工藝中的關鍵材料.它應用于芯片上，當用半導體曝光設備照射光時，會發(fā)生化學反應并改變物理性質，通過用顯影劑沖洗掉PR來繪制微電路，只留下必要的部分。

2019年，日本與韓國爆發(fā)爭議之后曾經限制三種重要的半導體材料對韓國的出口，EUV光刻膠就是其中之一，為此韓國公司也加快了EUV光刻膠的研發(fā)。

根據(jù)中研產業(yè)研究院《2021-2026年光刻膠市場發(fā)展現(xiàn)狀調查及供需格局分析預測報告》：

光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。

光刻膠有三大應用領域，按照應用領域可分為PCB(印制電路板)光刻膠、LCD(液晶顯示屏)光刻膠和半導體光刻膠。

光刻膠看似普通，其實技術門檻是極高的。全球光刻膠被美日壟斷，我國光刻膠嚴重依賴進口。

技術門檻越高，國產替代越難。技術門檻較低的PCB光刻膠國產化程度是最高的，國產化程度為50%。而技術門檻高一些的LCD刻膠和半導體光刻膠的國產化程度分別為10%和5%。

越是技術高端的光刻膠，對于生產原料的純度、雜質、金屬離子含量等要求也非常嚴苛。所以光刻膠光引發(fā)劑的國產化程度也因應用領域而異。

近年來各類終端應用加持OLED技術的趨勢下，各家的OLED面板產能稼動率也在不斷提升，根據(jù)CINNO Research統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，國內OLED面板廠10月平均稼動率為64.9%，相比9月增長6.2個百分點。近來有消息稱，2022年京東方向蘋果iPhone供OLED屏數(shù)量將是2021年三倍的傳聞，達到4000-5000萬支OLED面板，在iPhone OLED供應中占比將會提升到20%。

中國大陸顯示產業(yè)的迅猛發(fā)展，必然會讓其上游原材料需求也會迅速加大。根據(jù)CINNO Research預測，2021年中國大陸整體面板用光刻膠需求量在4.8萬噸，同比增長將達約16%。目前中國大陸市場九成以上的光刻膠用量仍為液晶面板生產所需，隨著OLED產能規(guī)模的擴增，預計至2025年OLED光刻膠用量比重將增至約20%。

伴隨著5G、AI與全球物聯(lián)網的推進，各類芯片用量不斷攀升，全球多個主要晶圓制造基地積極擴充產能。除了顯示產業(yè)蓬勃發(fā)展外，中國大陸也正在與全球同步加速晶圓產能的擴建。

目前來看，中國大陸的晶圓產能與全球差距仍然比較大，不過近年中國大陸在積極投建新的晶圓廠，進行產能方面的擴充。根據(jù)CINNO Research統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，中國大陸在全球晶圓產能中占比約16%，與日本地區(qū)產能相當，略高于美國地區(qū)的3%。

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