光刻膠市場現(xiàn)狀如何 光刻膠行業(yè)分析報告

• 2022年2月7日 YeYuJuan來源：互聯(lián)網(wǎng) 449 23
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越是技術高端的光刻膠，對于生產(chǎn)原料的純度、雜質(zhì)、金屬離子含量等要求也非常嚴苛。所以光刻膠光引發(fā)劑的國產(chǎn)化程度也因應用領域而異。光刻膠是PCB、LCD和半導體等各應用行業(yè)的上游材料，一般相同用途的光刻膠，由于投資大、市場比下游應用行業(yè)小，行業(yè)集中度非常高，只

光刻膠是電子化學品中技術壁壘最高的材料，具有純度要求高、生產(chǎn)工藝復雜、生產(chǎn)及檢測等設備投資大、技術積累期長等特征。從相關技術來看，光刻膠的核心技術包括配方技術、 質(zhì)量控制技術和原材料技術，配方技術是光刻膠實現(xiàn)功能的核心，而質(zhì)量控制技術能夠保證 光刻膠性能的穩(wěn)定性，而光刻膠原材料的品質(zhì)對光刻膠的質(zhì)量起著關鍵作用。

光刻膠市場現(xiàn)狀如何 光刻膠行業(yè)分析報告

越是技術高端的光刻膠，對于生產(chǎn)原料的純度、雜質(zhì)、金屬離子含量等要求也非常嚴苛。所以光刻膠光引發(fā)劑的國產(chǎn)化程度也因應用領域而異。光刻膠是PCB、LCD和半導體等各應用行業(yè)的上游材料，一般相同用途的光刻膠，由于投資大、市場比下游應用行業(yè)小，行業(yè)集中度非常高，只能有幾家企業(yè)生存。

光刻膠及其配套化學品占半導體材料產(chǎn)值12%，全球市場規(guī)模近百億美元，行業(yè)技術壁壘和客戶壁壘高，目前主要被日本、韓國和歐美國家壟斷。全球光刻膠市場行業(yè)集中度高，主要由日本合成橡膠、日本東京應化、美國羅門哈斯、日本信越化學和日本富士電子材料等企業(yè)壟斷，該五大企業(yè)全球市場占有率分別為28%、21%、15%、13%和10%，其中日本企業(yè)市場占有率達72%。

國內(nèi)光引發(fā)劑生產(chǎn)企業(yè)經(jīng)過十多年激烈的市場競爭，集中趨勢日益明顯，我國光引發(fā)劑生產(chǎn)領先企業(yè)有久日新材、揚帆新材、強力新材、固潤科技、雙鍵化工等，其中久日新材是全國產(chǎn)量最大、品種最齊全的光引發(fā)劑生產(chǎn)供應商，光引發(fā)劑業(yè)務市場占有率約30%。

工信部于2021年發(fā)布了《重點新材料首批次應用示范指導目錄(2021版)》，其中關于光刻膠及其原料的入選涵蓋了半導體光 刻膠及其原料和LCD用正性光刻膠。

半導體光刻膠屬于光刻膠高端產(chǎn)品，受技術限制，當前，我國半導體光刻膠需求主要由外資企業(yè)來滿足，2020年，外資企業(yè)的市場份額達71%。從不同光刻膠產(chǎn)品的自給率來看，目前適用于6英寸硅片的g線、i線光刻膠的自給率約為20%，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%，而適用于12寸硅片的ArF光刻膠基本依靠進口。

2016-2019年，全球半導體光刻膠的市場規(guī)模從15億美元增長至2019年的18億美元，年復合增速達6.3%，2020年，全球半導體光刻膠市場規(guī)模約為19億美元。伴隨著國內(nèi)晶圓代工產(chǎn)能的不斷提升，2025年國內(nèi)半導體光刻膠市場規(guī)模有望達到100億元，2020-2025年間半導體光刻膠的市場規(guī)模復合增速將達到35%，明顯高于全球半導體光刻膠市場規(guī)模的增速。

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