光刻機的生產(chǎn)制造極為復雜，從產(chǎn)業(yè)鏈來看，上游產(chǎn)業(yè)鏈主要包括測量臺與曝光臺(雙工件臺)、激光器、光速矯正器、能量控制器、光速形狀設置、遮光器、能量探測器、掩膜版、掩膜臺、物鏡、內部封閉框架和減震器等組件。
光刻技術是指在特定波長的光照作用下，借助光刻膠將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術，其中光刻機是整個光刻工藝乃至整個半導體制造工藝中最核心的設備。
光刻機的生產(chǎn)制造極為復雜，從產(chǎn)業(yè)鏈來看，上游產(chǎn)業(yè)鏈主要包括測量臺與曝光臺(雙工件臺)、激光器、光速矯正器、能量控制器、光速形狀設置、遮光器、能量探測器、掩膜版、掩膜臺、物鏡、內部封閉框架和減震器等組件。上游最為核心設備分別為光學鏡頭、光學光源和雙工件臺。光刻機行業(yè)的下游主要是圓晶代工企業(yè)，下游主要決定了光刻機市場的需求。
目前，全球光刻機市場的集中度極高，前三大廠商的市場份額占比達90%以上。數(shù)據(jù)顯示，2015-2020年，全球光刻機銷售量總體增長，2020年達413臺，同比增長16.7%。
光刻機隨著光刻技術的更迭，已從最初的g-line，i-line歷經(jīng)KrF、ArF發(fā)展到了如今的EUV。2020年，全球光刻機銷量仍以中低端產(chǎn)品(KrF、i-Line)為主，合計達264臺，占比約65%;而在高端光刻機-EUV的銷量為31臺，占比約19%。
EUV高端光刻機制造技術高度復雜，光學鏡頭、光源設備、是最為核心的。高精密光學鏡片是光刻機核心部件之一，高數(shù)值孔徑的鏡頭決定光刻機分辨率以及值誤差能力，EUV極紫外光刻機唯一可使用的鏡頭由卡爾蔡司生產(chǎn);高性能光刻機需要體積小、功率高和穩(wěn)定的光源，主流EUV光源為激光等離子光源(LPP)，目前只有美國廠商Cymer和日本廠商Gigaphoton才能夠生產(chǎn)。但是這些所有的核心部件皆對中國禁運。受制于該技術的高壁壘，光刻機成為中國半導體設備制造的最大短板。短時間內，中國光刻機難以追趕世界光刻機水平。
據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院報告《2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告》分析
就整體規(guī)模變動而言，2021年前三大阿斯麥、尼康、佳能分別總營收達1076億元，同比2020年增長8.9%，其中阿斯麥占比超8成。主要增長動力來源于EUV出貨帶動，隨著下游集成電路需求持續(xù)復雜和精細，工藝制程愈加接近極限，高端光刻機需求將持續(xù)擴張，帶動整體光刻機營收上升。數(shù)據(jù)顯示，2021年阿斯麥營收來源中中國超百億元，與國內晶圓產(chǎn)能擴張符合。
ASML壟斷全球光刻機市場。光刻機市場集中度高，ASML、Nikon、Canon市場占有率超過90%，其中ASML由于其技術領先，壟斷了EUV光刻機。就三大企業(yè)整體市場份額占比而言，獨占79.4%的市場份額，Nikon與Canon分別占據(jù)10.4%和10.2%的市場份額，佳能相較2020年上升主要原因是line光刻機出貨量增長較大，而尼康近兩年光刻機銷量持續(xù)下降。
光刻機國產(chǎn)化步伐加速
從政策層面來看，半導體行業(yè)對資金的需求本來就大，加之光刻機產(chǎn)業(yè)不是一場可以速戰(zhàn)速決的戰(zhàn)爭，政府應該保證相關支持政策及資金的持久性與連貫性。除了國家資金外，社會資本對整個半導體產(chǎn)業(yè)動向的洞悉會更深入。利用國家大基金等資本的帶動作用，引導社會資本深入半導體產(chǎn)業(yè)，布局先進技術，更能推動光刻機產(chǎn)業(yè)的整體進步。
從產(chǎn)業(yè)來看，國內光刻機產(chǎn)業(yè)應該促進整個產(chǎn)業(yè)鏈的協(xié)調發(fā)展，相關生產(chǎn)企業(yè)應形成良好的產(chǎn)業(yè)分工，從零部件到整機，企業(yè)做自己擅長的事情，建立更為緊密的合作關系，加快光刻機產(chǎn)業(yè)國產(chǎn)替代進程。
想要了解更多光刻機行業(yè)的發(fā)展前景，請查閱《2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告》。
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2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告
隨著光刻機行業(yè)競爭的不斷加劇，大型企業(yè)間并購整合與資本運作日趨頻繁，國內外優(yōu)秀的光刻機企業(yè)愈來愈重視對行業(yè)市場的分析研究，特別是對當前市場環(huán)境和客戶需求趨勢變化的深入研究，以期提前...
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