刻蝕機市場需求 中國刻蝕機行業(yè)市場投資前景分析

• 周迅 2022年12月1日 來源：互聯(lián)網(wǎng) 580 32
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刻蝕機尤其是介質(zhì)刻蝕機，是我國最具優(yōu)勢 的半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，也是國產(chǎn)替代占比最高的重要半導(dǎo)體設(shè)備之一。目前我國主流設(shè)備中，去膠設(shè)備、刻蝕設(shè)備、熱處理設(shè)備、清洗設(shè)備等的國產(chǎn)化率均已經(jīng)達到20%以上。隨著閃存技術(shù)突破，存儲市場拉動刻蝕設(shè)備需求明顯增大，預(yù)測20

刻蝕機是一種用于電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗儀器。光刻機相當于畫匠，刻蝕機是雕工。前者投影在硅片上一張精細的電路圖(就像照相機讓膠卷感光)，后者按這張圖去刻線(就像刻印章一樣，腐蝕和去除不需要的部分)。

刻蝕機市場需求 中國刻蝕機行業(yè)市場投資前景分析

按照刻蝕工藝劃分，刻蝕主要分為干法刻蝕以及濕法刻蝕。干法刻蝕主要利用反應(yīng)氣體與等離子體進行刻蝕，利用等離子體與表面薄膜反應(yīng)，形成揮發(fā)性物質(zhì)，或者直接轟擊薄膜表面使之被腐蝕的工藝。

濕法刻蝕工藝主要是將被刻蝕材料浸泡在腐蝕液內(nèi)進行腐蝕，該刻蝕方法會導(dǎo)致材料的橫向縱向同時腐蝕，會導(dǎo)致一定的線寬損失。干法刻蝕在半導(dǎo)體刻蝕中占據(jù)絕對主流地位，市場占比約 90%。

刻蝕機產(chǎn)業(yè)鏈中，上游為刻蝕機的四大組成部分，主要包括預(yù)真空室、刻蝕腔體、供氣系統(tǒng)及真空系統(tǒng);中游為刻蝕機的制造，刻蝕技術(shù)主要有兩種，傳統(tǒng)濕法刻蝕技術(shù)及現(xiàn)代干法刻蝕技術(shù);下游為刻蝕機的應(yīng)用，主要用來制造半導(dǎo)體器件、太陽能電池及其他微機械制造。

根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2021-2026年中國刻蝕機市場深度全景調(diào)研及投資前景分析報告》顯示：

半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場主要由美日廠商主導(dǎo)。半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備領(lǐng)域長期由海外龍頭壟斷，根據(jù)統(tǒng)計，全球刻蝕企業(yè)前三大分別是泛林半導(dǎo)體(Lam Research)、東京電子(TEL)、應(yīng) 用材料(AMAT)，全球市占率合計 91%，其中泛林半導(dǎo)體以45%的市場份額遙遙領(lǐng)先，東京電子和應(yīng)用材料則分別占據(jù) 28%和 18%的市場份額。

而國內(nèi)的刻蝕設(shè)備企業(yè)主要有中微公司、北方華創(chuàng)、屹唐半導(dǎo)體和中電科。其中，中微公司、北方華創(chuàng)和屹唐半導(dǎo)體均以生產(chǎn)干法刻蝕設(shè)備為主，中電科除了生產(chǎn)干法刻蝕設(shè)備以外還生產(chǎn)濕法刻蝕設(shè)備。除上述企業(yè)外，國內(nèi)還有創(chuàng)世微納、芯源微和華林科納等企業(yè)生產(chǎn)刻蝕設(shè)備。

數(shù)據(jù)顯示，在芯片制造的所有設(shè)備中，光刻機的成本占比約為24%，而刻蝕機的占比約為20%，這兩種設(shè)備合計占比為44%。從國內(nèi)市場來看，刻蝕機尤其是介質(zhì)刻蝕機，是我國最具優(yōu)勢 的半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，也是國產(chǎn)替代占比最高的重要半導(dǎo)體設(shè)備之一。目前我國主流設(shè)備中，去膠設(shè)備、刻蝕設(shè)備、熱處理設(shè)備、清洗設(shè)備等的國產(chǎn)化率均已經(jīng)達到20%以上。

隨著閃存技術(shù)突破，存儲市場拉動刻蝕設(shè)備需求明顯增大，預(yù)測2025年全球刻蝕設(shè)備市場空間達到155億美元，市場空間增量主要來自于存儲制造對刻蝕設(shè)備的需求激增。

本報告幫助刻蝕機行業(yè)企業(yè)、科研單位、銷售企業(yè)、投資企業(yè)準確了解行業(yè)當前最新發(fā)展動向，及早發(fā)現(xiàn)行業(yè)市場的空白點，機會點，增長點和盈利點……前瞻性的把握行業(yè)未被滿足的市場需求和趨勢，形成企業(yè)良好的可持續(xù)發(fā)展優(yōu)勢。

了解更多行業(yè)數(shù)據(jù)詳情，可以點擊查閱中研普華產(chǎn)業(yè)研究院的《2021-2026年中國刻蝕機市場深度全景調(diào)研及投資前景分析報告》。

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