未來10年光刻機(jī)巨頭年均增長(zhǎng)11% 半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化發(fā)展機(jī)遇

• 2021年9月29日 HuangJiang來源：新浪 1361 89
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荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)又大幅上調(diào)了財(cái)務(wù)預(yù)測(cè)，并且表示，由于市場(chǎng)對(duì)其產(chǎn)品的需求旺盛，預(yù)計(jì)到2030年，公司營(yíng)收將以每年11%左右的速度增長(zhǎng)。ASML(阿斯麥)按照使用的光源不同可以分為DUV光刻機(jī)和EUV光刻機(jī)。更為重要的EUV光刻機(jī)上，ASML(阿斯麥)是處于全球獨(dú)A

未來10年光刻機(jī)巨頭年均增長(zhǎng)11%

荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)7月份的第二季度盈利發(fā)布會(huì)上，預(yù)計(jì)2021年銷售額將增長(zhǎng)35%，達(dá)到近190億歐元，毛利率超過50%。

周三，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)又大幅上調(diào)了財(cái)務(wù)預(yù)測(cè)，并且表示，由于市場(chǎng)對(duì)其產(chǎn)品的需求旺盛，預(yù)計(jì)到2030年，公司營(yíng)收將以每年11%左右的速度增長(zhǎng)。

該公司預(yù)計(jì)2025年?duì)I收將達(dá)到240 - 300億歐元，毛利率最高將達(dá)到55%。相比之下，此前的預(yù)測(cè)是2025年?duì)I收150億至240億歐元，毛利率至少50%。

光刻機(jī)哪個(gè)國(guó)家的最好

光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是中國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板，國(guó)內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)幾乎完全依賴進(jìn)口。

荷蘭ASML(阿斯麥)公司是全球最大的光刻機(jī)制造商，也是全球唯一可以提供EUV光刻機(jī)的廠商，在全球高端光刻機(jī)市場(chǎng)處于壟斷地位。

ASML(阿斯麥)按照使用的光源不同可以分為DUV光刻機(jī)和EUV光刻機(jī)。更為重要的EUV光刻機(jī)上，ASML(阿斯麥)是處于全球獨(dú)占的地位，意思是該半導(dǎo)體設(shè)備只有 ASML 能供應(yīng)，這在全球產(chǎn)業(yè)鏈中屬于極度特別的狀態(tài)。

2021年全球半導(dǎo)體行業(yè)支出1500億美元

根據(jù)美國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)(SIA)公布的數(shù)據(jù)顯示，2021年1-6月全球半導(dǎo)體市場(chǎng)銷售額達(dá)到2,531億美元，同比增長(zhǎng)21.4%，而在其公布的最新數(shù)據(jù)顯示，2021年7月全球半導(dǎo)體銷售額454.4億美元，同比增長(zhǎng)29.1%。

SIA還預(yù)計(jì)2021年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)銷售額將增長(zhǎng)25.1%，在2022年，全球半導(dǎo)體市場(chǎng)銷售額將增長(zhǎng)10.1%至6060億美元，并預(yù)計(jì)所有區(qū)域都將再次出現(xiàn)正增長(zhǎng)。市場(chǎng)需求的旺盛將會(huì)使得全球半導(dǎo)體行業(yè)維持高增長(zhǎng)。

美國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)(SIA)在最新發(fā)布的報(bào)告中表示，2021年，全球半導(dǎo)體行業(yè)的資本支出預(yù)計(jì)將達(dá)到近1500億美元，2022年將超過1500億美元。在2021年之前，全球半導(dǎo)體行業(yè)的年度資本支出從未超過1150億美元。

SIA表示，全球半導(dǎo)體行業(yè)正計(jì)劃通過創(chuàng)紀(jì)錄的制造和研發(fā)投資，來滿足未來幾年預(yù)期的市場(chǎng)增長(zhǎng)。市場(chǎng)研究機(jī)構(gòu)IDC稱，在消費(fèi)、計(jì)算、5G和汽車半導(dǎo)體的持續(xù)強(qiáng)勁增長(zhǎng)的推動(dòng)下，2021年全球半導(dǎo)體營(yíng)收預(yù)計(jì)將激增12.5%，達(dá)到5220億美元。

半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化發(fā)展機(jī)遇

目前，半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)能整體仍處在緊張狀態(tài)，再加上主要供應(yīng)鏈馬來西亞和越南等東南亞國(guó)家半導(dǎo)體工廠因疫情而被迫關(guān)閉，產(chǎn)能供給緊張進(jìn)一步加劇。

全球半導(dǎo)體產(chǎn)能供給緊張對(duì)我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)來說既是機(jī)遇也是挑戰(zhàn)。在這樣的背景下，我國(guó)半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化率上升空間大，國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程有望進(jìn)一步加快，這對(duì)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備商來說是有利的。

根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，在2021二季度，中芯國(guó)際產(chǎn)能利用率達(dá)到100.4%，華虹半導(dǎo)體則達(dá)到109.5%，產(chǎn)能利用率依舊維持高位。

此外，在已知緊供給造成晶圓廠上修資本支出增加，從而利好設(shè)備廠商前提條件下，臺(tái)積電上調(diào)2021年資本開支至300-310億美元，并宣布未來3年投入1000億美元大舉擴(kuò)產(chǎn);中芯國(guó)際預(yù)計(jì)2021年資本支出為43億美元;世界先進(jìn)資本支出2021年規(guī)劃資本支出51億新臺(tái)幣，同比增長(zhǎng)44.1%。這將有助于國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)一步發(fā)展。

中芯國(guó)際、華虹半導(dǎo)體等代工廠持續(xù)擴(kuò)產(chǎn)，國(guó)產(chǎn)晶圓代工、封測(cè)、設(shè)備和材料等也因此具備強(qiáng)勁增長(zhǎng)動(dòng)能，將持續(xù)受益。

欲了解中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展詳細(xì)分析，可點(diǎn)擊中研普華《2021-2026年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》

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  2021-2026年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告

  隨著國(guó)內(nèi)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展面臨巨大機(jī)遇和挑戰(zhàn)。在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)方面，光刻機(jī)企業(yè)數(shù)量越來越多，市場(chǎng)正面臨著供給與需求的不對(duì)稱，光刻機(jī)行業(yè)有進(jìn)一步洗牌的強(qiáng)烈要求，但是在一些光刻機(jī)細(xì)分...

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