2023電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場前景及現狀分析

• 劉明月 2023年6月21日 來源：百度百科 中研網 1082 69
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電子束曝光系統(tǒng)(EBL)的消費地區(qū)為北美、歐洲、亞太等地區(qū)。亞太地區(qū)在2019年占據了最大的收入市場份額，約為48%。其次是歐洲和北美，而其他地區(qū)的市場規(guī)模較小。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)的消費地區(qū)為北美、歐洲、亞太等地區(qū)。亞太地區(qū)在2019年占據了最大的收入市場份額，約為48%。其次是歐洲和北美，而其他地區(qū)的市場規(guī)模較小。

在最近的一項研究中，昆士蘭科技大學的研究團隊首次將電子束曝光(EBL)技術應用于生物納米結構的仿生制造，并取得了重要研究成果。昆士蘭科技大學Prasad KDV Yarlagadda及其研究團隊對蟬翼的殺菌和細胞相容特性進行了系統(tǒng)研究，并首次使用電子束曝光技術(EBL)進行蟬翼結構的仿生制造，加工出類似的納米錐陣列結構，經研究發(fā)現，其同樣具有殺菌和生物相容性。

圖表：2023-2028年中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場規(guī)模預測

圖表：2023-2028年中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)供應情況預測

圖表：2023-2028年中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)需求情況預測

據中研研究院出版的《2023-2028年電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)深度分析及投資戰(zhàn)略研究咨詢報告》顯示：

2023電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場前景及現狀分析

電子束曝光是利用電子束在涂有感光膠的晶片上直接描畫或投影復印圖形的技術，它的特點是分辨率高(極限分辨率可達到3～8μm)、圖形產生與修改容易、制作周期短。它可分為掃描曝光和投影曝光兩大類，其中掃描曝光系統(tǒng)是電子束在工件面上掃描直接產生圖形，分辨率高，生產率低。投影曝光系統(tǒng)實為電子束圖形復印系統(tǒng)，它將掩模圖形產生的電子像按原尺寸或縮小后復印到工件上，因此不僅保持了高分辨率，而且提高了生產率。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)是光刻技術的延伸應用。光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達到的精度越高。根據德布羅意的物質波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時間長是它的一個主要缺點。為了解決這個問題，納米壓印術應運而生。

電子束曝光按掃描方式，成形電子束曝光系統(tǒng)又可分為矢量掃描型和光柵掃描型。掃描式電子束曝光系統(tǒng)可以得到極高的分辨率，但其生產率較低，不能滿足大規(guī)模生產的需要。成形束系統(tǒng)生產率固然有所提高，但其分辨率一般在0.2μm左右，難以制作納米級圖形。近年來研發(fā)的投影電子束來曝光系統(tǒng)，既能使曝光分辨率達到納米量級，又能大大提高生產率，且不需要鄰近效應校正。在研制中的投影式電子束曝光系統(tǒng)主要有兩種。

電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達到的精度越高。根據德布羅意的物質波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時間長是它的一個主要缺點。為了解決這個問題，納米壓印術應運而生。

全球電子束曝光系統(tǒng)(EBL)主要廠商有Raith、ADVANTEST、JEOL、Elionix、Crestec等，全球前三大廠商共占有大約70%的市場份額。中國是全球最大的電子束曝光系統(tǒng)市場，占有大約22%的市場份額，之后是北美和歐洲市場，二者各占有大約20%的份額。

全球電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場規(guī)模達到了11億元，預計2026年將達到14億元，年復合增長率(CAGR)為7.3%。

據統(tǒng)計，歐洲電子束曝光系統(tǒng)的產量約為1364臺，較2020年增長了6.98%;產值約為14.14億美元，較2020年增長了12.67%。日本電子束曝光系統(tǒng)的產量約為791臺，較2020年增長了2.06%;產值約為6.87億美元，較2020年增長了3.0%。

國內電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)前景及現狀發(fā)展如何?隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設備，在這兩類設備中，電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)在性能和數量上均占優(yōu)勢。

近年來，中國電子束曝光系統(tǒng)的產量和產值都呈現出較快的增長態(tài)勢。據統(tǒng)計，2021年，中國電子束曝光系統(tǒng)的產量約為864臺，同比增長12.06%;產值約為6.82億美元，同比增長18.40%。近年來，中國電子束曝光系統(tǒng)的產量和產值都呈現出較快的增長態(tài)勢。據統(tǒng)計，中國電子束曝光系統(tǒng)的產量約為864臺，同比增長12.06%;產值約為6.82億美元，同比增長18.40%。

圖表：中國電子束曝光系統(tǒng)產量及產值情況

數據來源：中研普華產業(yè)研究院

據測算，2022-2025年光刻膠市場規(guī)模將達222、250、281和316億元，成長空間廣闊。其中光電、傳感器、執(zhí)行器和分立器件 (統(tǒng)稱 OSD 設備)將達到創(chuàng)紀錄的 1155 億美元。半導體產品銷售的強勢增長，為半導 體材料市場提供厚實基礎，作為耗材，其每年的需求量整體穩(wěn)步上升。SMIC 的招股說明書中，光阻(光刻膠及配套試劑)成本占比在所有原材料中占第二大，為 14.4%，處 在較高地位。因此綜合整體半導體材料端的需求增長及光刻膠自身在材料中極高的地位， 未來光刻膠市場需求也將不斷穩(wěn)定擴大。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)報告在公司多年研究結論的基礎上，結合中國行業(yè)市場的發(fā)展現狀，通過公司資深研究團隊對市場各類資訊進行整理分析，電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)相關數據依托國家權威數據資源和長期市場監(jiān)測的中研普華數據庫，進行全面、細致的研究，是中國市場上最權威、有效的研究產品。電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)研究報告可以幫助投資者合理分析行業(yè)的市場現狀，為投資者進行投資作出行業(yè)前景預判，挖掘投資價值，同時提出電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)投資策略和營銷策略等方面的建議。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)報告由中研普華行業(yè)分析專家領銜撰寫，主要分析了行業(yè)的市場規(guī)模、發(fā)展現狀與投資前景，同時對電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)的未來發(fā)展做出科學的趨勢預測和專業(yè)的行業(yè)數據分析，幫助客戶評估行業(yè)投資價值。

未來電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)市場前景現狀如何?更多行業(yè)具體詳情可以點擊查看中研普華產業(yè)研究院出版的《2023-2028年電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)深度分析及投資戰(zhàn)略研究咨詢報告》。

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