光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。
光刻膠概念異動拉升
2023年8月2日,光刻膠概念異動拉升,張江高科漲超8%,安泰科技、容大感光、芯源微、藍英裝備等跟漲。
光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時,若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。
在光刻膠工藝過程中,涂層曝光、顯影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下來,該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來,而未曝光被溶解,該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同,又分為紫外光刻膠(包括紫外正、負性光刻膠)、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。光刻膠生產技術較為復雜,品種規(guī)格較多,在電子工業(yè)集成電路的制造中,對所使用光刻膠有嚴格的要求。
光刻膠產業(yè)鏈上游主要為樹脂、光引發(fā)劑、單體等;中游依據(jù)應用范圍不同分為PCB光刻膠、LCD光刻膠以及半導體光刻膠,其中半導體光刻膠對工藝要求更為精細;下游則主要為半導體、PCB、平板顯示屏等。
隨著集成度的提高,光刻膠的分辨率的要求越來越高,所用的光源波長越來越短。因為光刻膠成像時可分辨線寬與曝光波長成正比,與曝光機透鏡開口數(shù)成反比,所以縮短曝光波長是提高分辨率的主要途徑。光刻工藝經歷了從g線、i線光刻的近紫外(NUV),進入到深紫外(DUV)248 nm光刻,以及193 nm光刻的發(fā)展歷程。值得指出的是:現(xiàn)代曝光技術不僅要求高的分辨率,而且要有工藝寬容度和經濟性,顯然光源的波長越短,光刻膠的分辨率越高,感光樹脂合成的難度也越大。
在平板顯示器制造中,平板顯示器電路的制作、等離子顯示器障壁的制作、液晶顯示器彩色濾光片的制作均需采用光刻技術,使用不同類型的光刻膠。按用途可分為TFT用光刻膠、觸摸屏用光刻膠和濾光片用光刻膠。
隨著光刻膠的發(fā)展,技術越來越成熟,下游應用場景也越來越豐富,在全球光刻膠市場中,LCD光刻膠占比27.3%,PCB光刻膠占比23%,半導體光刻膠占比21.9%,各類型光刻膠占比較為平均,全球光刻膠產品占比較為均衡。隨著下游制造需求的逐漸擴大,我國光刻膠產業(yè)鏈雛形初現(xiàn),市場規(guī)模增長顯著。數(shù)據(jù)顯示,我國光刻膠市場規(guī)模由2017年58.7億元增至2020年84億元,年均復合增長率為12.7%。
根據(jù)中研普華產業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年中國光刻膠市場深度全景調研及投資前景分析報告》顯示:
我國大陸憑借勞動力成本和終端市場需求等優(yōu)勢逐漸成為全球最大的電子信息產品制造基地,隨著半導體、PCB、面板產能的不斷增長,上游材料光刻膠市場需求實現(xiàn)同步增長,光刻膠產量快速增長。數(shù)據(jù)顯示,2020年我國光刻膠產量達13萬噸,同比增長18.2%。在全球半導體光刻膠市場中,日本企業(yè)牢牢占據(jù)龍頭地位,至少占據(jù)60%以上。據(jù)統(tǒng)計,2016-2021年全球半導體光刻膠的市場規(guī)模從15億美元增長至21.4億美元,復合增長率為7%。中國半導體光刻膠市場規(guī)模逐年增加,由2017年的15.8億元增長至2021年的20.5億元,增長幅度29.7%,復合增長率為6.7%。
我國光刻膠生產能力主要集中PCB光刻膠,占比高達94%;半導體光刻膠由于技術壁壘較高僅占2%。高端光刻膠是生產28nm、14nm乃至10nm以下制程的關鍵,被國外巨頭壟斷,國產化任重道遠。光刻膠生產制造主要被日本JSR、東京應化、信越化學、住友化學等制造商所壟斷,尤其在高分辨率的KrF和ArF光刻膠領域,其核心技術基本由美國和日本制造商所掌握。
我國本土企業(yè)與國外光刻膠制造商仍存在差距,但近年來,我國本土企業(yè)逐漸發(fā)展,部分國內企業(yè)已在光刻膠等高端產品進口替代取得突破。數(shù)據(jù)顯示,東京應化市場占比最大達27%,杜邦、JSR、住友化學市場占比分別為17%、13%、13%。統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示:中國光刻膠市場主要由日本、美國廠商占據(jù):其中,東京應化、杜邦、JSR、住友化學、DONGJIM的市場份額分別為27%、17%、13%、13%、11%,合計80%。
在“中國制造2025”的背景下,2025年要實現(xiàn)70%的核心基礎零部件、關鍵基礎材料自主保障,80種標志性先進工藝得到推廣應用,部分達到國際領先水平,建成較為完善的產業(yè)技術基礎服務體系,逐步形成整機牽引和基礎支撐協(xié)調互動的產業(yè)創(chuàng)新發(fā)展格局。
由于光刻膠技術壁壘高,在所有半導體材料中進口替代空間最大,目前中國企業(yè)正積極追趕國際最先進的光刻膠技術,大量投入研發(fā)積累核心競爭力。
中研普華利用多種獨創(chuàng)的信息處理技術,對市場海量的數(shù)據(jù)進行采集、整理、加工、分析、傳遞,為客戶提供一攬子信息解決方案和咨詢服務,最大限度地降低客戶投資風險與經營成本,把握投資機遇,提高企業(yè)競爭力。想要了解更多最新的專業(yè)分析請點擊中研普華產業(yè)研究院的《2023-2028年中國光刻膠市場深度全景調研及投資前景分析報告》。
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2023-2028年中國光刻膠市場深度全景調研及投資前景分析報告
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