掩膜版行業(yè)發(fā)展機(jī)遇與趨勢：掩膜版行業(yè)市場空間廣闊

• 吳亞楠 2024年3月8日 來源：互聯(lián)網(wǎng) 402 19
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掩膜版作為光刻環(huán)節(jié)非耗材產(chǎn)品，主要掛鉤下游新產(chǎn)品開發(fā)需求，而非產(chǎn)品需求。當(dāng)晶圓廠需求低迷時(shí)，空出的產(chǎn)能促進(jìn)新芯片設(shè)定方案的加速，芯片設(shè)計(jì)公司將通過設(shè)計(jì)新產(chǎn)品刺激市場，提升銷量，進(jìn)而帶來對(duì)掩膜版的增量需求。

掩膜版作為微納加工技術(shù)中光刻工藝所使用的圖形母版，在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著信息技術(shù)和智能制造的快速發(fā)展，特別是智能手機(jī)、平板電腦、車載電子等市場的快速增長，光掩膜版的市場需求也在快速增長。

掩膜版行業(yè)市場空間廣闊

掩膜版逆周期屬性可熨平半導(dǎo)體周期，保持賽道平穩(wěn)增長。大部分半導(dǎo)體材料需求周期緊跟晶圓廠稼動(dòng)率周期，因此在半導(dǎo)體需求下行周期時(shí)，半導(dǎo)體材料普遍出現(xiàn)量價(jià)齊跌狀態(tài)。掩膜版作為光刻環(huán)節(jié)非耗材產(chǎn)品，主要掛鉤下游新產(chǎn)品開發(fā)需求，而非產(chǎn)品需求。

當(dāng)晶圓廠需求低迷時(shí)，空出的產(chǎn)能促進(jìn)新芯片設(shè)定方案的加速，芯片設(shè)計(jì)公司將通過設(shè)計(jì)新產(chǎn)品刺激市場，提升銷量，進(jìn)而帶來對(duì)掩膜版的增量需求。

面板產(chǎn)業(yè)鏈向國內(nèi)轉(zhuǎn)移，帶動(dòng)相關(guān)掩膜版材料保持高增。130nm及以下半導(dǎo)體掩膜版國產(chǎn)化處于起步期，市場空間廣闊。建議關(guān)注：路維光電、清溢光電等。

5G技術(shù)的逐步成熟和商用，也為光掩膜版市場帶來了新的機(jī)遇。

根據(jù)中研普華研究院撰寫的《2023-2028年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報(bào)告》顯示：

掩膜版行業(yè)發(fā)展機(jī)遇與趨勢

掩膜版，也稱為光掩膜基版或光罩，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。在光刻過程中，掩膜版起到設(shè)計(jì)圖形的載體作用。通過光刻工藝，掩膜版上的設(shè)計(jì)圖形被轉(zhuǎn)移到光刻膠上，然后經(jīng)過刻蝕，將圖形刻到襯底上，從而實(shí)現(xiàn)圖形到硅片的轉(zhuǎn)移。掩膜版是光刻過程中的關(guān)鍵部件，其性能的好壞直接影響光刻的效果。

掩膜版的構(gòu)造材質(zhì)根據(jù)需求不同而有所選擇，但目前主流是使用具有低熱膨脹系數(shù)、低鈉含量、高化學(xué)穩(wěn)定性及高光穿透性等特質(zhì)的石英玻璃。在其上鍍有約100nm的不透光鉻膜作為工作層，并鍍有約20nm的氧化鉻來減少光反射，增加工藝的穩(wěn)定性。

隨著面板產(chǎn)業(yè)鏈向國內(nèi)轉(zhuǎn)移，相關(guān)掩膜版材料的市場需求也保持高增長。尤其是130nm及以下半導(dǎo)體掩膜版國產(chǎn)化處于起步期，市場空間廣闊。

近年來，掩膜版行業(yè)在技術(shù)上取得了顯著的進(jìn)步。國產(chǎn)掩膜版已突破多項(xiàng)關(guān)鍵核心技術(shù)，包括掩膜版制造和光阻涂布等部分技術(shù)，打破了國外廠商在上述產(chǎn)品和技術(shù)領(lǐng)域的長期壟斷。這些技術(shù)突破不僅提高了掩膜版的質(zhì)量和性能，也降低了生產(chǎn)成本，增強(qiáng)了國內(nèi)掩膜版企業(yè)的競爭力。

未來，掩膜版行業(yè)將繼續(xù)朝著高質(zhì)量、高性能、高附加值的方向發(fā)展。隨著下游行業(yè)的快速發(fā)展和市場規(guī)模的不斷增長，掩膜版行業(yè)將迎來更為廣闊的市場空間。同時(shí)，隨著技術(shù)的進(jìn)步和市場競爭的加劇，掩膜版企業(yè)需要不斷提高自身的技術(shù)水平和創(chuàng)新能力，以適應(yīng)不斷變化的市場需求。

清溢光電作為國內(nèi)成立最早、規(guī)模最大的掩膜版生產(chǎn)企業(yè)之一，通過確立“平板顯示掩膜版+半導(dǎo)體芯片掩膜版”互促共進(jìn)的“雙翼”發(fā)展戰(zhàn)略，持續(xù)加大研發(fā)投入，積累了豐厚的客戶資源。隨著國內(nèi)平板顯示和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，公司不斷增加產(chǎn)能，聚焦中高端掩膜版的技術(shù)積累和產(chǎn)能布局的升級(jí)調(diào)整。

高精度掩模版是生產(chǎn)AMOLED/LTPS及高分辨率TFT-LCD顯示屏的關(guān)鍵要素。在國內(nèi)平板顯示行業(yè)迅速發(fā)展的背景下，中高端顯示屏產(chǎn)品也帶動(dòng)了高精度、高價(jià)值量面板掩模版需求。目前，清溢光電合肥工廠聚焦于提升中高端平板顯示掩模版的技術(shù)和產(chǎn)能，成功開發(fā)6代AMOLED中高精度掩模版，打破國外壟斷，進(jìn)一步縮小與海外競爭對(duì)手的差距。

掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢

掩膜版行業(yè)是一個(gè)高度全球化的行業(yè)，國際間的合作與交流對(duì)于推動(dòng)行業(yè)的發(fā)展具有重要意義。國內(nèi)掩膜版企業(yè)需要積極參與國際市場競爭，學(xué)習(xí)借鑒國際先進(jìn)技術(shù)和管理經(jīng)驗(yàn)，提高自身的國際競爭力。

技術(shù)創(chuàng)新將成為推動(dòng)掩膜版行業(yè)發(fā)展的核心動(dòng)力。隨著半導(dǎo)體技術(shù)、微納加工技術(shù)的不斷進(jìn)步，掩膜版的精度、穩(wěn)定性、使用壽命等性能要求也在不斷提高。因此，掩膜版企業(yè)需要加大研發(fā)投入，推動(dòng)技術(shù)創(chuàng)新，提高產(chǎn)品的技術(shù)含量和附加值。

市場需求將驅(qū)動(dòng)掩膜版行業(yè)的快速發(fā)展。隨著智能手機(jī)、平板電腦、汽車電子等消費(fèi)電子產(chǎn)品市場的持續(xù)增長，以及5G、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等新興領(lǐng)域的快速發(fā)展，對(duì)掩膜版的需求將不斷增加。同時(shí)，新興應(yīng)用領(lǐng)域如柔性顯示、可穿戴設(shè)備等也將為掩膜版行業(yè)帶來新的增長點(diǎn)。

隨著市場競爭的加劇，掩膜版企業(yè)需要不斷提升自身的競爭力，通過技術(shù)創(chuàng)新、產(chǎn)品升級(jí)、市場拓展等手段，提高市場份額和盈利能力。同時(shí)，行業(yè)內(nèi)的兼并重組也將成為趨勢，通過整合優(yōu)勢資源，提高產(chǎn)業(yè)集中度，推動(dòng)行業(yè)的健康發(fā)展。

在激烈的市場競爭中，企業(yè)及投資者能否做出適時(shí)有效的市場決策是制勝的關(guān)鍵。中研網(wǎng)撰寫的掩膜版行業(yè)報(bào)告對(duì)中國掩膜版行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、競爭格局及市場供需形勢進(jìn)行了具體分析，并從行業(yè)的政策環(huán)境、經(jīng)濟(jì)環(huán)境、社會(huì)環(huán)境及技術(shù)環(huán)境等方面分析行業(yè)面臨的機(jī)遇及挑戰(zhàn)。同時(shí)揭示了市場潛在需求與潛在機(jī)會(huì)，為戰(zhàn)略投資者選擇恰當(dāng)?shù)耐顿Y時(shí)機(jī)和公司領(lǐng)導(dǎo)層做戰(zhàn)略規(guī)劃提供準(zhǔn)確的市場情報(bào)信息及科學(xué)的決策依據(jù)，同時(shí)對(duì)政府部門也具有極大的參考價(jià)值。

想了解關(guān)于更多掩膜版行業(yè)專業(yè)分析，可點(diǎn)擊查看中研普華研究院撰寫的《2023-2028年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報(bào)告》。同時(shí)本報(bào)告還包含大量的數(shù)據(jù)、深入分析、專業(yè)方法和價(jià)值洞察，可以幫助您更好地了解行業(yè)的趨勢、風(fēng)險(xiǎn)和機(jī)遇。

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  2023-2028年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報(bào)告

  掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜上承載著設(shè)計(jì)圖形，光源投...

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