光刻膠是國(guó)際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一，在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，占芯片制造時(shí)間的40%~50%，光刻膠是光刻工藝得以實(shí)現(xiàn)選擇性刻蝕的關(guān)鍵材料。

光刻膠的應(yīng)用范圍主要有PCB板，LCD，LED和半導(dǎo)體，前面三種技術(shù)要求相對(duì)較低，但我國(guó)企業(yè)仍然沒有實(shí)現(xiàn)完全自給。而半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)壁壘較高、市場(chǎng)高度集中，幾乎被日美企業(yè)壟斷，生產(chǎn)商主要有日本JSR、信越化學(xué)工業(yè)、日本TOK、陶氏化學(xué)等。

國(guó)產(chǎn)光刻膠通過量產(chǎn)驗(yàn)證

據(jù)“中國(guó)光谷”消息，光谷企業(yè)近日在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破：武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)配方全自主設(shè)計(jì)，有望開創(chuàng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。

該產(chǎn)品對(duì)標(biāo)國(guó)際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于國(guó)外同系列產(chǎn)品，T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高。

光刻膠是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，主要由感光樹脂、增感劑和溶劑3種材料組成的對(duì)光敏感的混合液體，可在光刻工藝過程中用作抗腐蝕涂層材料，是光刻工藝最重要的耗材，對(duì)光刻精度至關(guān)重要，光刻膠被稱為半導(dǎo)體材料皇冠上的明珠，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)最關(guān)鍵的材料。

光刻膠所在產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋范圍十分廣泛，從上游基礎(chǔ)化工材料行業(yè)、精細(xì)化學(xué)品行業(yè)到中游光刻膠制備，到下游PCB、面板、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，再到電子等應(yīng)用終端。光刻膠作為微電子領(lǐng)域微細(xì)圖形加工核心上游材料，占據(jù)電子材料至高點(diǎn)。

中國(guó)光刻膠行業(yè)市場(chǎng)現(xiàn)狀及前景分析

近年來，隨著人工智能、大數(shù)據(jù)、云計(jì)算、物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子等應(yīng)用領(lǐng)域的快速發(fā)展，半導(dǎo)體行業(yè)逐漸恢復(fù)增長(zhǎng)，并成為全球科技競(jìng)爭(zhēng)的重要戰(zhàn)場(chǎng)。從全球范圍來看，在經(jīng)歷了一輪去庫(kù)存周期后，全球半導(dǎo)體市場(chǎng)呈現(xiàn)出持續(xù)復(fù)蘇態(tài)勢(shì)。

2024年7月全球半導(dǎo)體銷售額同比增長(zhǎng)18.7%，連續(xù)9個(gè)月實(shí)現(xiàn)同比增長(zhǎng)，環(huán)比增長(zhǎng)2.7%;根據(jù)WSTS的預(yù)測(cè)，上調(diào)預(yù)測(cè)2024年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)銷售額同比增長(zhǎng)16%，預(yù)計(jì)2025年將同比增長(zhǎng)12.5%。

隨著全球半導(dǎo)體制程向著更先進(jìn)、更精細(xì)化方向發(fā)展，驅(qū)動(dòng)了半導(dǎo)體制造對(duì)光刻膠的需求增長(zhǎng)。

據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院《2024-2029年中國(guó)光刻膠行業(yè)深度分析與投資前景分析報(bào)告》分析：

我國(guó)光刻膠的研究始于20世紀(jì)70年代，最初階段與國(guó)際水平相差無幾，幾乎和日本同時(shí)起步，但由于種種原因，差距愈來愈大。近年來隨著半導(dǎo)體市場(chǎng)在我國(guó)迅速發(fā)展，光刻膠及其配套試劑在中國(guó)市場(chǎng)上呈快速增長(zhǎng)的態(tài)勢(shì)。

根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2022年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模為26.4億美元，同比增長(zhǎng)6.82%;大陸半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模為5.93億美元，同比增長(zhǎng)20.47%，增速遠(yuǎn)高于全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)。

我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、面板產(chǎn)業(yè)和PCB產(chǎn)業(yè)主要集中在長(zhǎng)三角、珠三角和環(huán)渤海地區(qū)和成渝鄂地區(qū)發(fā)展，其中面板產(chǎn)業(yè)和PCB產(chǎn)業(yè)的產(chǎn)業(yè)集群已經(jīng)初步形成，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)集群化分布進(jìn)一步顯現(xiàn)，已初步形成以長(zhǎng)三角、環(huán)渤海、珠三角三大核心區(qū)域聚集發(fā)展的產(chǎn)業(yè)空間格局。

我國(guó)光刻膠生產(chǎn)及研發(fā)企業(yè)也主要圍繞這些產(chǎn)業(yè)的區(qū)域發(fā)展而布局，目前光刻膠生產(chǎn)及研發(fā)企業(yè)也主要集中在長(zhǎng)三角、珠三角地區(qū)。

受益于國(guó)家紅利政策的扶持，中國(guó)本土光刻膠制造商積極提升光刻膠產(chǎn)品技術(shù)水平和研發(fā)能力，推進(jìn)光刻膠國(guó)產(chǎn)化的進(jìn)程。未來，中國(guó)有望突破高端光刻膠產(chǎn)品的技術(shù)壁壘，帶動(dòng)中國(guó)光刻膠產(chǎn)量進(jìn)一步提升。在國(guó)家一系列紅利政策帶動(dòng)下，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體、平板顯示及PCB行業(yè)發(fā)展勢(shì)頭良好，我國(guó)光刻膠產(chǎn)量呈現(xiàn)穩(wěn)中有升態(tài)勢(shì)。

與此同時(shí)，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、平板顯示器、PCB行業(yè)逐漸向中國(guó)轉(zhuǎn)移，帶動(dòng)中國(guó)光刻膠的需求激增，中國(guó)光刻膠行業(yè)擁有較大發(fā)展空間。

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