光刻機(jī)(lithography)又名掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
光刻機(jī)的概念
光刻機(jī)(lithography)又名掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
光刻機(jī)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ),世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此曝光機(jī)價(jià)格昂貴,通常在3 千萬至5億美元。
根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2022-2027年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預(yù)測報(bào)告》顯示:
中國的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展得如此緩慢,在于早期中國考慮到先進(jìn)技術(shù)可以通過在海外購買的方式實(shí)現(xiàn),因此導(dǎo)致國產(chǎn)的光刻機(jī)即使生產(chǎn)出來也沒有廠商愿意使用,畢竟國產(chǎn)光刻機(jī)在技術(shù)方面不如海外企業(yè)。直到近幾年,國產(chǎn)光刻機(jī)得到重視。
隨著半導(dǎo)體和信息通訊等產(chǎn)業(yè)穩(wěn)步擴(kuò)張,全球光刻機(jī)銷量呈現(xiàn)穩(wěn)步增長態(tài)勢,2021年top3企業(yè)銷量達(dá)478臺(tái),同比2020年增長65臺(tái)。整體來看,集成電路、面板和LED光刻機(jī)整體出貨約650臺(tái),其中集成電路約500臺(tái)左右。
光刻機(jī)市場由三個(gè)品牌壟斷,ASML、尼康(Nikon)、佳能(Canon)市場占有率超過90%,是典型的寡頭壟斷市場,而ASML更是壟斷最高端的極紫外(EUV)光刻機(jī)市場。從全球光刻機(jī)市場份額來看,2020年ASML、Nikon和Canon分別占據(jù)全球光刻機(jī)市場84%、7%、5%,合計(jì)市場份額約96%。
從政策環(huán)境上來看,我國對于光刻機(jī)行業(yè)較為重視。其主要表現(xiàn)在對于整個(gè)IC產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的政策優(yōu)待以及對于半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的相關(guān)規(guī)劃與推動(dòng)。其主要表現(xiàn)在資金方面的補(bǔ)助和人才方面的培養(yǎng),以及進(jìn)出口,投融資方面的政策扶持。
EUV作為唯一能夠制備7nm及以下工藝的光刻機(jī),采用EUV光源,使用的光波波長只有13.5nm, NA (數(shù)值孔徑)為0.33, 目前全球只有ASML能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)。
2020年中國集成電路累計(jì)產(chǎn)量達(dá)到了2614.2億塊,同比增長29.53%。2021年中國集成電路累計(jì)產(chǎn)量達(dá)到了3594億塊,同比增長37.48%。中國已成為全球規(guī)模最大、增速最快的集成電路市場。
光刻機(jī)的下游市場,數(shù)據(jù)顯示,2021年全球半導(dǎo)體市場規(guī)模達(dá)5559,同比2020年增長26.2%。中國集成電路銷售額超萬億元,達(dá)10458.3億元,同比2020年增長18.2%。
國產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈在光刻機(jī)方面的進(jìn)展,讓中國正成為全球最具潛力的光刻機(jī)生產(chǎn)國,這方面是ASML所在的荷蘭和尼康所在的日本都無法達(dá)到的,產(chǎn)業(yè)鏈已成為中國光刻機(jī)的核心競爭優(yōu)勢。
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2022-2027年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預(yù)測報(bào)告
隨著光刻機(jī)行業(yè)競爭的不斷加劇,大型企業(yè)間并購整合與資本運(yùn)作日趨頻繁,國內(nèi)外優(yōu)秀的光刻機(jī)企業(yè)愈來愈重視對行業(yè)市場的分析研究,特別是對當(dāng)前市場環(huán)境和客戶需求趨勢變化的深入研究,以期提前...
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