2023電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)發(fā)展分析及前景研究

• 吳亞楠 2023年9月22日 來源：互聯(lián)網 313 13
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電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)競爭的不斷加劇，大型企業(yè)間并購整合與資本運作日趨頻繁，國內外優(yōu)秀的電子束曝光系統(tǒng)(EBL)企業(yè)愈來愈重視對行業(yè)市場的分析研究，特別是對當前市場環(huán)境和客戶需求趨勢變化的深入研究，以期提前占領市場，取得先發(fā)優(yōu)勢。

電子束曝光(electron beam lithography)指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達到的精度越高。根據德布羅意的物質波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。

電子束曝光需要的時間長是它的一個主要缺點。為了解決這個問題，納米壓印術應運而生。電子束曝光系統(tǒng)(electron beam lithography system)即用于實現(xiàn)電子束曝光的系統(tǒng)。電子束曝光在半導體工業(yè)中被廣泛使用于研究下一代超大規(guī)模集成電路。

基于改進掃描電鏡的電子束曝光系統(tǒng)由于SEM的工作方式與電子束曝光機十分相近,最初的電子束曝光機是從SEM基礎上改裝發(fā)展起來的，近年來隨著計算機技術的飛速發(fā)展，將SEM改裝為曝光機的工作取得了重要進展。主要改裝工作是設計一個圖形發(fā)生器和數模轉換電路，并配備一臺PC機。PC機通過圖形發(fā)生器和數模轉換電器去驅動SEM的掃描線圈，從而使電子束偏轉。

同時通過圖形發(fā)生器控制束閘的通斷，最終在工件上描繪出所要求的圖形。通常采用矢量掃描方式描繪圖形，即在掃描場內以矢量方式移動電子束，在單元圖形內以光柵掃描填充。對SEM進行改裝時，應考慮SEM偏轉系統(tǒng)的帶寬以及工作臺移動精度等對曝光圖形誤差和圖形畸變的影響。高檔SEM改裝系統(tǒng)的功能接近于專用電子束曝光機，但由于受到視場小、速度低及自動化程度低等限制，在生產率上不可能與專用電子束曝光系統(tǒng)相比。

根據中研普華研究院撰寫的《2023-2028年中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)發(fā)展前景及投資風險預測分析報告》顯示：

電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)發(fā)展分析及前景研究

電子束曝光按掃描方式，成形電子束曝光系統(tǒng)又可分為矢量掃描型和光柵掃描型。掃描式電子束曝光系統(tǒng)可以得到極高的分辨率，但其生產率較低，不能滿足大規(guī)模生產的需要。成形束系統(tǒng)生產率固然有所提高，但其分辨率一般在0.2μm左右，難以制作納米級圖形。近年來研發(fā)的投影電子束來曝光系統(tǒng)，既能使曝光分辨率達到納米量級，又能大大提高生產率，且不需要鄰近效應校正。在研制中的投影式電子束曝光系統(tǒng)主要有兩種。

電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達到的精度越高。根據德布羅意的物質波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時間長是它的一個主要缺點。為了解決這個問題，納米壓印術應運而生。

電子束裝備主要由束流產生裝置、束流加速裝置、束流引出裝置、輻射場形成裝置、控制裝置等構成。按照加速原理來劃分，電子束設備輻照裝置可以分為直流高壓型、高頻諧振型兩大類;按照能量來劃分，電子束設備輻照裝置可以分為低能型、中能型、高能型等。

隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設備，在這兩類設備中，電子束設備在性能和數量上均占優(yōu)勢。最先進的激光制版系統(tǒng)，其束斑直徑在0.2μm左右，可以用來制作0.18μm，0.15μm生產線的掩模版，但對特征尺寸更小的器件的掩模，只能用電子束曝光系統(tǒng)來制作，特別是用于光學光刻中的銘版制造。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)競爭的不斷加劇，大型企業(yè)間并購整合與資本運作日趨頻繁，國內外優(yōu)秀的電子束曝光系統(tǒng)(EBL)企業(yè)愈來愈重視對行業(yè)市場的分析研究，特別是對當前市場環(huán)境和客戶需求趨勢變化的深入研究，以期提前占領市場，取得先發(fā)優(yōu)勢。正因為如此，一大批優(yōu)秀品牌迅速崛起，逐漸成為行業(yè)中的翹楚。中研普華利用多種獨創(chuàng)的信息處理技術，對電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)市場海量的數據進行采集、整理、加工、分析、傳遞，為客戶提供一攬子信息解決方案和咨詢服務，最大限度地降低客戶投資風險與經營成本，把握投資機遇，提高企業(yè)競爭力。

根據曝光圖形的精度要求可以調整矩形束斑的尺寸，由于該系統(tǒng)是固定束斑，電子束曝光的數據處理比較簡單:如果將第2光瀾置換成固定尺寸和形狀的鏤空掩模，即可形成定形束投影電子束光刻系統(tǒng)。

電子束曝光系市場格局

全球電子束曝光系(Electron Beam Lithography System，EBL)主要廠商有Raith、ADVANTEST、JEOL、Elionix、Crestec等，全球前三大廠商共占有大約70%的市場份額。中國是全球最大的電子束曝光系統(tǒng)市場，占有大約22%的市場份額，之后是北美和歐洲市場，二者各占有大約20%的份額。

在激烈的市場競爭中，企業(yè)及投資者能否做出適時有效的市場決策是制勝的關鍵。電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)報告對中國電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、競爭格局及市場供需形勢進行了具體分析，并從行業(yè)的政策環(huán)境、經濟環(huán)境、社會環(huán)境及技術環(huán)境等方面分析行業(yè)面臨的機遇及挑戰(zhàn)。還重點分析了重點企業(yè)的經營現(xiàn)狀及發(fā)展格局，并對未來幾年行業(yè)的發(fā)展趨向進行了專業(yè)的預判。

本報告同時揭示了電子束曝光系統(tǒng)市場潛在需求與潛在機會，為戰(zhàn)略投資者選擇恰當的投資時機和公司領導層做戰(zhàn)略規(guī)劃提供準確的市場情報信息及科學的決策依據，同時對政府部門也具有極大的參考價值。同時包含大量的數據、深入分析、專業(yè)方法和價值洞察，可以幫助您更好地了解行業(yè)的趨勢、風險和機遇。

想了解關于更多電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)專業(yè)分析，可點擊查看中研普華研究院撰寫的《2023-2028年中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)發(fā)展前景及投資風險預測分析報告》。

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